谷口 智哉
日新イオン機器株式会社 / ビーム技術開発
イオン源安定性向上
25%
イオン源は放電によりプラズマを発生させて、所望のイオンを引き出す。放電を利用していることから、大電流が流れてしまいエラーを頻発することがある。エラーが頻発するとメンテナンスすることになるので、大きな時間の損失につながる。 安定してビームを引き出すことを目的に、混合ガスを使用し、ビーム引き出し時間を約1.25倍向上させることに成功した。
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日新イオン機器株式会社 / ビーム技術開発
最近気に入っている言葉は、Done is better than perfect。多くの人が完璧を追求してからでないと行動に移せない、結局意味がないと思ってしまいがち。しかし完璧は最初からこないことも事実で、軌道修正を重ねていくことでしか、自分の想像を超えるものは出来ないのではないかと考えている。
機械学習、深層学習を用いて医療分野への貢献、特に創薬分野への応用に取り組みたい 特にコロナワクチンのmRNAなど、タンパク質解析やゲノム解析の重要性が増しており、自分がどれくらいそれに貢献できるか挑戦したい
海外勤務を通じて外の世界に目を向け、活躍していける人材 また技術者として成長
学部:電気回路や電磁気などの電気系の基礎知識 修士:アミロイドベータタンパク質検出に向けたバイオセンサの開発
日新イオン機器株式会社 / ビーム技術開発
イオン源は放電によりプラズマを発生させて、所望のイオンを引き出す。放電を利用していることから、大電流が流れてしまいエラーを頻発することがある。エラーが頻発するとメンテナンスすることになるので、大きな時間の損失につながる。 安定してビームを引き出すことを目的に、混合ガスを使用し、ビーム引き出し時間を約1.25倍向上させることに成功した。